本文源自:金融界
金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种用于半导体工艺的紫外线灯及半导体工艺设备”的专利，公开号CN 119049955 A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种用于半导体工艺的紫外线灯，包括：灯管和沿灯管长度方向延伸的反射镜，该反射镜为横截面呈U形的弧面板且包围该灯管，该反射镜的U形顶部穿过连接部以通过该连接部与机壳相连接，该反射镜的U形下端部设有固定部，该固定部上设有调位螺栓，通过该调位螺栓推挤该反射镜的下端侧面使得该反射镜的绕顶部旋转以调整该反射镜的安装角度。
