本文源自:金融界
金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，中环领先半导体科技股份有限公司申请一项名为“一种外延片及其清洗方法”的专利，公开号CN 119049960 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本申请公开了一种外延片及其清洗方法，涉及半导体制造技术领域。一种外延片的清洗方法，包括：对外延片上的污染物进行第一次氧化处理，以使部分污染物形成第一氧化膜；清洗外延片，以去除至少部分第一氧化膜；检测清洗后的外延片，获取外延片上残留的污染物的含量；若污染物的含量小于或等于预设值，则完成对外延片的清洗。本申请提供的外延片的清洗方法，可以有效去除外延片表面的各种污染物，提高外延片的洁净度，从而提高器件的产品良率。
