本文源自:金融界
金融界2024年12月3日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司取得一项名为“储液罐及薄膜沉积设备”的专利，授权公告号 CN 222081418 U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供了一种储液罐及一种薄膜沉积设备。所述储液罐包括罐体、加热模块、冷却模块及集成传感器。所述罐体用于容纳液态化学源。所述加热模块，设于所述罐体的第一位置，用于通过所述罐体来加热所述液态化学源。所述冷却模块设于所述罐体的第二位置，用于通过所述罐体来冷却所述液态化学源。所述集成传感器漂浮于所述储液罐中的液态化学源表面，用于分别采集所述液态化学源的液位信号及温度信号，并将所述温度信号分别传输到所述加热模块及所述冷却模块，以供其相互配合地将所述液态化学源稳定在其目标温度。本实用新型可以缩短对储存罐内液态化学源温度控制的稳定时间，以提升薄膜沉积工艺效率。
