全芯智造申请用于光学邻近校正的专利,显著降低模型仿真及校正时间

全芯智造申请用于光学邻近校正的专利,显著降低模型仿真及校正时间
2024年12月04日 18:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月4日消息,国家知识产权局信息显示,全芯智造技术有限公司申请一项名为“用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质”的专利,公开号CN 119065193 A,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本公开的实 施例涉及用于光学邻近 校正的方法、电子设备及 计算机可读存储介质。该 方法包括:确定光学邻近 校正OPC模型中的光学信 号部分;基于锚点以及光 学信号部分生成OPC模型 的简化模型;确定光学信 号部分在OPC模型的信号 部分中所占的比率;以及 基于所述比率与校正循 环中衰减系数的数值关系,以确定在所述校正循环中使用的模 型对版图进行校正本公开的技术方案能够节省计算资源并显 著降低模型仿真及校正的时间。

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