本文源自:金融界
金融界2024年12月5日消息，国家知识产权局信息显示，等离子体成膜有限公司申请一项名为“等离子体处理装置”的专利，公开号CN 119069325 A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种等离子体处理装置，其具备：等离子体处理室，收容被处理基材；输送装置，将所述被处理基材输送到所述等离子体处理室内；电感耦合型线状天线，用于产生等离子体；偏置电极，对等离子体电位进行调制；以及加热装置，加热所述被处理基材，所述偏置电极的与长边方向垂直地切断的断面为穹顶形或U形的箱形，在该偏置电极内所述电感耦合型线状天线以及所述加热装置大致平行于所述偏置电极的长边方向配置。
