深圳众诚达申请高导电导热的硅靶材及其制备方法和光学元件专利,显著改善硅靶材的导电导热性能

深圳众诚达申请高导电导热的硅靶材及其制备方法和光学元件专利,显著改善硅靶材的导电导热性能
2024年12月07日 17:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月7日消息,国家知识产权局信息显示,深圳众诚达应用材料股份有限公司申请一项名为“一种高导电导热的硅靶材及其制备方法和光学元件”的专利,公开号CN 119082688 A,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本申请涉及靶材制备技术领域,提供一种高导电导热的硅靶材及其制备方法和光学元件,包括:将硅残靶和硼粉进行第一气流粉碎得到硅硼混合粉;将硅硼混合粉进行热压处理得到硅硼合金锭;将硅硼合金锭机械破碎至5mm以下后进行第二气流粉碎,分级得到硅硼合金粗粉和硅硼合金细粉;将硅硼合金细粉和溶剂进行球磨混合形成浆料;将浆料喷到硅硼合金粗粉中,进行滚动造粒得到造粒粉;将造粒粉热喷涂到背管上,机加工得到硅靶材。本申请通过添加硼粉与硅残靶一起进行气流粉碎,使硅残靶粉碎和硼粉混合均匀,然后经过热压处理使硅硼混合粉形成合金,再经过二次气流粉碎使硅硼合金粉的硼分布更加均匀,从而实现掺杂微量硼以显著改善硅靶材的导电导热性能。

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