苏州旌晖创半导体新材料取得一种等离子体射频线圈专利,可确保淬火均匀性

苏州旌晖创半导体新材料取得一种等离子体射频线圈专利,可确保淬火均匀性
2024年12月07日 18:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月7日消息,国家知识产权局信息显示,苏州旌晖创半导体新材料有限公司取得一项名为“一种等离子体射频线圈”的专利,授权公告号 CN 222106595 U,申请日期为 2024 年 3 月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种等离子体射频线圈,涉及等离子体射频线圈技术领域,包括射频线圈组件和升降组件,所述射频线圈组件的外部侧边架设有轨道架组,所述升降组件滑动安装于轨道架组的表面,而且射频线圈组件的正下方安装有设备台组。该等离子体射频线圈,通过升降组件的使用,可以同时连接射频线圈组件与喷淋组件,使得升降组件在沿着导轨在垂直方向上进行上下移动时可以同时带动射频线圈组件和喷淋组件进行同步移动,以便于在对工件进行迅速加热后,将水喷淋在工件表面对其进行淬火加工,同时设备台组可以在一定范围内对不同的工件提供夹持固定,并带动其进行转动,以确保射频线圈组件可以对工件进行全方位的加热,以便于淬火的均匀性。

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