芯德半导体申请多芯片堆叠的封装结构及其制备方法专利,大大提高封装密度

芯德半导体申请多芯片堆叠的封装结构及其制备方法专利,大大提高封装密度
2024年12月10日 10:51 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月10日消息,国家知识产权局信息显示,江苏芯德半导体科技股份有限公司申请一项名为“一种多芯片堆叠的封装结构及其制备方法”的专利,公开号 CN 119092513 A,申请日期为 2024 年 11 月。

专利摘要显示,本发明提供了一种多芯片堆叠的封装结构及其制备方法,该封装结构包括载体框架、上叠芯片组、下叠芯片组、塑封层和重布线层,载体框架包括至少一个导电柱和芯片贴装区,上叠芯片组和下叠芯片组纵向堆叠在芯片贴装区,芯片 I/O 接口设置在两侧边缘,塑封层包覆载体框架、上叠芯片组和下叠芯片组;在塑封层的顶面和底面分别设置至少一层重布线层,通过导电柱实现重布线层、上叠芯片组和下叠芯片组的电气连接。本发明还公开了上述封装结构的制备方法。本发明采用的 3D Fanout 多芯片封装结构,可以实现多个芯片的立体堆叠,从而大大提高了封装密度,相比现有的二维封装方式,可以节省更多的空间,实现更高密度的封装。

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