本文源自:金融界
金融界2024年12月10日消息，国家知识产权局信息显示，上海鉴影光学科技有限公司申请一项名为“一种高对比度晶圆定位校准标物及制备方法”的专利，公开号CN 119092486 A ，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高对比度晶圆定位校准标物及制备方法，包括以下步骤：S1、采用电子束热蒸发技术制备介质多层膜；S2、在介质多层膜表面旋涂光刻胶；S3、采用电子束曝光技术进行曝光，将曝光后的样品依次放入显影液和定影液中，去除被曝光区域的光刻胶，得到与设计图形形状相同的光刻胶图形；S4、采用电感耦合‑反应离子刻蚀技术对顶层的Si层进行完全刻蚀；S5、通过等离子体去胶机，将表面剩余的光刻胶去除；S6、利用去胶液对表面进行后道清洗，得到晶圆定位校准标物。本发明采用上述一种高对比度晶圆定位校准标物及制备方法，介质材料提供高对比度，且无金属污染风险，利用电子束曝光图形化的纳米级加工精度，具有图形定位精度高的优势。
