重庆欣晖取得排气管和气相沉积设备专利,改善位于反应腔室内不同位置处的基材上的沉积层厚度的一致性

重庆欣晖取得排气管和气相沉积设备专利,改善位于反应腔室内不同位置处的基材上的沉积层厚度的一致性
2024年12月10日 17:55 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月10日消息,国家知识产权局信息显示,重庆欣晖材料技术有限公司取得一项名为“排气管和气相沉积设备”的专利,授权公告号CN 222119381 U,申请日期为2024年6月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种排气管,所述排气管用于反应腔室,所述排气管包括:出口;多个排气口,所述多个排气口设置在所述排气管的周向侧壁上,使得所述反应腔室内的气体能够从所述多个排气口进入所述排气管并经由所述出口排出所述反应腔室;其中,所述多个排气口中的至少两个排气口相对于所述反应腔室的底部在竖向方向上的高度是不同的,本实用新型还公开了一种气相沉积设备,通过使用该排气管和气相沉积设备使反应气体能够更均匀地分布在反应腔室中,从而改善位于反应腔室内不同位置处的基材上的沉积层厚度的一致性。

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