本文源自:金融界
金融界2024年12月11日消息，国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种基于双束显微镜的制备纳米孔的方法及装置”的专利，公开号 CN 119100327 A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，本发明提供了一种基于双束显微镜的制备纳米孔的方法，包括：提供一硅片衬底基体；其中，所述硅片衬底基体的两侧表面各沉积一层氮化硅薄膜；通过半导体工艺将所述氮化硅薄膜进行图像化，得到图像化氮化硅薄膜；通过所述双束显微镜将所述图像化氮化硅薄膜进行打孔处理，得到纳米孔；对所述纳米孔进行电化学表征检测。本发明利用双束显微镜，具有良好的分辨率，并且采用氮化硅材料可以通过光学或者电学的方式同时检测多个颗粒过孔的脉冲信号。本发明还提供了一种装置，具有相应优势。
