英利能源发展取得硅片绕扩装置及扩散炉专利,实现硅片正背面的均匀镀膜

英利能源发展取得硅片绕扩装置及扩散炉专利,实现硅片正背面的均匀镀膜
2024年12月23日 14:15 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月23日消息,国家知识产权局信息显示,英利能源发展有限公司取得一项名为“硅片绕扩装置及扩散炉”的专利,授权公告号CN 222182554 U,申请日期为2024年1月。

专利摘要显示,本实用新型提供了一种硅片绕扩装置及扩散炉,属于太阳能电池技术领域,包括石英舟以及进气系统,石英舟的卡槽内双插有硅片;进气系统包括进气总管以及并联于进气总管的第一进气管和第二进气管,第一进气管布设于石英舟的下方;第一进气管上设置有伸入石英舟内的第一导气管;第二进气管布设于硅片的上方;第二进气管上设置有进气孔。本实用新型在双插硅片的上方和下方同时布置进气管,扩散反应气体同时从硅片上方和下方送入硅片之间,使得扩散反应气体能更加均匀的填充在硅片之间,实现硅片正背面的均匀镀膜,提升硅片的光电转换效率,改善硅片绕镀造成中间薄边缘厚的问题,降低后序清洗难度及清洗过刻导致硅片转换效率下降的问题。

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