迈为技术取得晶圆校准设备专利,校准效率高

迈为技术取得晶圆校准设备专利,校准效率高
2024年12月24日 21:05 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月24日消息,国家知识产权局信息显示,迈为技术(珠海)有限公司取得一项名为“一种晶圆校准设备”的专利,授权公告号CN 222190642 U,申请日期为2024年4月。

专利摘要显示,本实用新型公开一种晶圆校准设备,属于半导体加工技术领域。该晶圆校准设备包括相机、载台、检测相机模块以及驱动组件,载台与底板之间设置x轴导轨与y轴导轨,驱动组件包括旋转驱动装置、x轴驱动装置以及y轴驱动装置,通过驱动组件可以实现载台三个自由度的运动,从而实现对目标晶圆的位置与方向状态的识别,顺利进行后续工序,晶圆校准设备工作时,可以实现晶圆在检测相机模块下方的转动,保证镜头能够对晶圆进行边缘检测以确定圆心,并寻找晶圆缺口或平边以确定晶圆方向,从而实现晶圆位置与角度方位的识别。该晶圆校准设备校准效率高,且y轴导轨为长轴导轨,能够调整载台中心与镜头光轴之间的距离,以适应不同尺寸晶圆校准需求。

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