本文源自:金融界
金融界2025年1月16日消息，国家知识产权局信息显示，新一新能源科技（衢州）有限公司申请一项名为“基于非等离子体的氟刻蚀设备”的专利，公开号CN 119297110 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及基于非等离子体的氟刻蚀设备。本发明在上料传输机构的传输路径上设置刻蚀反应腔体，并在一个刻蚀反应腔体内配置多个不同功能的区域，硅片通过上料传输机构进入腔体后依次穿过各功能区后得到完成刻蚀的硅片，整个过程没有停顿和缓冲的过程，实现了边运动边反应的连续生产效果，从进入刻蚀反应腔体到出刻蚀反应腔体的总工艺时间在几十秒到几分钟之间，有效提高了生产效率。此外，刻蚀反应腔体内气压基本为常压，采用氮气帘与外界大气环境隔离，不需要用真空泵抽到真空或低压环境，节省了真空泵的使用，简单的设备空间设计相比于常规封闭型腔体设计，大大降低了设备的制造复杂度和成本。
天眼查资料显示，新一新能源科技（衢州）有限公司，成立于2023年，位于衢州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本51020.408163万人民币，实缴资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，新一新能源科技（衢州）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可1个。
