北大校友攻克量子级联激光器的阈值功耗难题,实现反直觉物理现象,系量子级联激光器泰斗的第一位中国博士生

北大校友攻克量子级联激光器的阈值功耗难题,实现反直觉物理现象,系量子级联激光器泰斗的第一位中国博士生
2022年01月17日 16:05 麻省理工科技评论

“我是量子级联激光器(QCL)的发明人杰罗姆·法斯特(Jérôme Faist)教授的第一个中国博士生,因为他过几年要退休了,也可能是最后一个中国学生。杰罗姆担任过 ETH 的物理系系主任,获得过 IEEE 金奖,是全球 QCL、乃至整个半导体激光器领域当之无愧的泰斗。”

师从这位泰斗的学生叫王智鑫,生于 1991,祖籍河北省高碑店市,出生、生长在山西省太原市。中学通过物理竞赛保送北大物理学院;本科毕业后,又保送至北大信息科学技术学院电子系读研,硕士期间以第一作者发表 3 篇国际期刊,还曾获得过国家奖学金。

2017 年,他来到爱因斯坦的母校、瑞士苏黎世联邦理工学院(ETH Zurich)读博士,师从 QCL 的发明人杰罗姆·法斯特(Jérôme Faist)教授。

2021 年 12 月 6 日,他以第一作者身份在 Nature Communications 发表了题为《通过金属圆孔通过相位前工程实现超低阈值激射》(Ultra-low threshold lasing through phase front engineering via a metallic circular aperture)的论文[1]

图 | 相关论文(来源:Nature Communications)

其表示,该论文重点解决了量子级联激光器的阈值功耗问题。量子级联激光器(Quantum cascade laser,QCL),是中红外波段主流的激光器类型。

与传统的带间跃迁(interband)激光器不同,量子级联激光器是基于带内跃迁(intersubband transition),跃迁的两个能级都在导带。

因为跃迁的能量由量子阱(quantum well)的宽度决定,所以激光器的波长可以在一定范围内自由控制。

和量子级联激光器的发明者一起做研究

量子级联激光器 1994 年由王智鑫的导师杰罗姆发明。当前,QCL 的主要用途是气体监测、环境保护等。因为很多温室气体的吸收谱集中在中红外波段,所以基于 QCL 的气体监测系统可以非常灵敏地探测到这些气体。世界著名的瑞士少女峰山顶上,就有一台这样的 QCL,用来监测大气层中二氧化碳的浓度。

图 | 少女峰顶的科学研究站(来源:https://www.empa.ch/web/s503/co2-stable-isotopes)

制约 QCL 广泛应用的一大因素是高功耗。因为级联的特性和相对较低的带内跃迁效率,QCL 的功耗基本都在 10W 以上,相当于家用照明 LED 灯泡的功率。这种器件在工作时依赖强大的散热系统,比如水冷;而这些主动散热的系统往往非常笨重,难以便携移动,从而制约了 QCL 在移动平台(比如无人机)上的使用。

如何降低 QCL 的功耗呢?降低功耗的关键,一方面是把器件尺寸尽量做小,另一方面是尽可能减小器件的能量损耗。激光器的核心部分是一个损耗很低的谐振腔。理想情况下,最简单的低损耗谐振腔,就是两面平行、相对的镜子。光在两面镜子之间来回反射,如果跑不出去,又没有被吸收的话,损耗就是零。

在设计中,为了降低损耗,就要使这两面“镜子”的反射率最大,常见做法是在两面都镀上金属(比如黄金)。因为金属的反射率接近 100%,所以这两面镜子组成的腔体损耗就非常小。

但这样的设计有一个致命的问题,两面都完全镀金的话,光就彻底跑不出来。这样的激光器虽然损耗很低,但是无法出光,没什么用。那么怎么让光跑出来呢?最直接的办法无疑是在金属镜子上开一个小孔。

开了孔以后,光就能跑出来了,然而镜面的反射率随之下降、激光器损耗会随之上升,功耗还是降不下来。所以王智鑫在此处最究极的追求,是可以既让光出来,又不降低损耗,这样就能把 QCL 的功耗进一步降低。

通过大量的计算机模拟,他发现还真有这种办法。对于 4.5 微米波长的光来说,如果在金属镀膜上开一个直径 990 纳米的圆孔,不仅出光功率可以大幅提高,而且金属镀膜的反射率竟然也可以同时提高。换句话说,激光器的功率和功耗可以同时得到优化。

图 | 在特定的亚波长尺寸范围内,开孔可以提高金属镀膜的模式反射率(来源:Nature Communications)

这怎么可能呢?透射和反射同时提高,这似乎违背了能量守恒定律。通过仔细研究发现,激光器的光在被金属镀膜反射之后,并不是全部都会进入到腔体、并反射到另一面,而是有一部分耗散掉了。

光在激光器的腔体里传播时,其实一直被束缚在一个比较狭小的“管道”(波导)里。当光被金属膜反射后,有一部分发散“跑”掉,无法重新进入到“管道”里。如果在金属镀膜上打开一个直径 990 纳米的圆孔,那么这个圆孔实际上会起到透镜的作用,把反射的光重新“聚焦”到“管道”里。

相比于没有打孔的情况,这时虽然有光透射出去(出光功率提高),但是有更多原本耗散掉的光,又被聚焦到了“管道”里,所以进入“管道”的反射光也变强了。于是,在提高激光器出射功率的同时,损耗也降低了,最终实现了下降激光器功耗的目标。

(来源:Nature Communications)

原理听上去很简单,要想实现并不容易。这里说的圆孔直径大约 1 微米,是人头发丝直径的 1/70。若论面积的话,则是头发丝切面面积的大约五千分之一。这个孔不仅很小,而且尺寸必须非常精确。王智鑫在模拟和实验时发现,如果孔的直径误差超过 100 纳米(0.1 微米),降低损耗的效果就无法达到。

经过反复的探索和尝试,这一结果最终成功得到了实验的验证。他在激光器两边的金属镀膜上,先后打开两个直径 950 纳米的圆形孔。开这两个孔之后,不仅激光器的出射功率大幅提高,而且(阈值)功耗下降了 25%。这样下来,最终的(阈值)功耗降低到了 143MW,比之前的世界纪录低了 40% 以上。

图 | 本工作中 QCL 器件和打孔镀膜的示意图(来源:Nature Communications)

不过,最一开始得到这个低阈值功耗 QCL 课题时,他和导师都没有什么好想法。当时因为他有研究光子晶体(一种较为复杂的周期性光学结构)的经验,导师让他用电脑模拟的办法,尝试各种各样不同的设计,无论有多么复杂,先找到一种实现低阈值的可行设计。然而过去了半年时间,尝试了几种不同的方案,始终没有满意的结果。

后来有一天,他们商量说要不先不考虑出光,就试试最简单的双面镀金设计,看看能把阈值功耗降低到多少。于是,他就让做工艺的同事(文章的第二作者)把 QCL 切成 250 微米长。一般的 QCL 长度大约是 2-6 毫米,而 250 微米已经是机械切割的尺寸极限了。

他把这个器件两面镀金之后拿去测试,发现其实结果还不错,阈值确实很低,令人满意。所以实际上,只需要解决出光的问题,就可以得到比较好的结果。

要实现出光也有很多不同的设计,在端面的镀膜上打一个洞,也是最“简单粗暴”的想法。当时导师跟王智鑫说,如果开洞的尺寸合适,说不定可以让反射率不降反增。

一开始他是不相信的,后来做了很多计算机模拟之后,果真看到了这个现象。但那时还不敢确信,因为实在是违反直觉,所以一度怀疑是出现了模拟的数值误差。

后面就是实验的部分,首先要解决的是,怎么样在镀膜上打一个直径大约 1 微米的小洞。当时正好学校购置了新的聚焦离子束磨蚀(focused ion beam milling, FIB)设备,他就参加了培训。获得使用权限以后,又要解决很多其他的具体问题。

比如怎么在一个完全均匀的镀膜上、在“看不见”波导的情况下,让小孔精确地对准波导。为了解决磨蚀的角度问题,王智鑫还专门设计了用来承载样品的机械转接件,等等。经过一段时间的尝试之后,终于解决了打孔的技术困难。

最早的在 QCL 的镀膜上打孔之后,他发现出光功率大幅提升了,但是开孔之后阈值仍然有小幅的上升。其实这个结果已经很好,但还是不太满意。后来发现是因为开的孔尺寸不够精确,有大约 100 纳米的偏差。

再经过反复的尝试,终于实现了对于镀膜厚度、小孔尺寸、对准等各个方面的精确控制,也就得到了这个工作中最终呈现的结果。

采用马斯克“第一性原理”,系统性探究微小尺寸 QCL 上光损耗的控制原理

马斯克喜欢说“第一性原理”,也就是回到事物的本源去思考。总结来说,王智鑫也抱着类似想法做研究,觉得既然没有思路,干脆就试试最最简单的双面镀金设计好——看看数值怎么样,心里也能有个数。正是这个不太抱希望的尝试,最终为整个课题打开了一道曙光,指引他们最终实现了论文中的工作。

该研究除了大幅降低 QCL 的阈值功耗之外,更重要的贡献是系统性地探究了微小尺寸 QCL 上光损耗的控制原理。实现低功耗 QCL 的设计并不限于该论文的方案,但是这一原理却是所有后续工作中都必须考虑的方面。

研究中,王智鑫已经实现无散热连续工作的 QCL,这一结果可以扩展 QCL 在更广泛的场景上、尤其是移动平台的应用。未来如果在此基础上,进一步解决大规模并行制备的工艺,还可以将 QCL 的成本降低一个甚至几个数量级。

如果实现这一点的话,将来基于 QCL 的传感系统设计,可能会深入我们生活的方方面面。如果将来有一天,每个智能手机上有一个用来监测空气成分的 QCL,也许不是没有可能。

在该工作的基础上,王智鑫希望进一步解决制约大规模量产的技术瓶颈。如果成功的话,可以显著降低 QCL 的成本,将会在工业意义上对整个 QCL 产业带来重大影响。

另据悉,博士毕业后,王智鑫加入瑞士一家做光学光刻机的公司 Eulitha AG,担任光学研究员,从事光栅衍射、塔伯光刻(Talbot lithography)等方向的研究。

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