罗门哈斯取得用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的 CMP 垫专利

罗门哈斯取得用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的 CMP 垫专利
2024年11月23日 12:01 金融界火线

金融界 2024 年 11 月 23 日消息,国家知识产权局信息显示,罗门哈斯电子材料 CMP 控股股份有限公司取得一项名为“用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的 CMP 垫”的专利,授权公告号 CN 114770370 B,申请日期为 2022 年 1 月。

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