半导体前道设备厂商思锐智能半年内再获投资；液体可回收运载火箭厂商深蓝航天完成数亿元B轮融资；松禾资本领投钠离子电池厂商湖钠能源
在整个半导体制造过程中，薄膜沉积是前道制造的核心工艺之一。一般需要使用不同的薄膜沉积技术如化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 和物理气相沉积(PVD)，来满足不同的需求。但在这几种沉积技术中，传统的物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积 (CVD)在精度、均匀性、成分控制、复杂结构制备等方面都存在一定的限制。相比之下，原子层沉积 (ALD) 技术在精度、均匀性、成分控制和复杂结构制备方面的优势使其成为当今半导体制造和纳米技术领域的重要工具，为高性能和高可靠性的器件制造提供了关键支持。青岛四方思锐智能技术有限公司成立于2018年，是国家级专精特新“小巨人”，在北京、上海设有研发中心。主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案，公司产品有原子层沉积镀膜(ALD)设备、薄膜电发光显示器(LDI)设备以及离子注入（IMP）设备三大产品系列，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。
