光刻机、光刻胶概念震荡拉升 清溢光电涨超15%

光刻机、光刻胶概念震荡拉升 清溢光电涨超15%
2024年04月29日 10:11 财联社APP

【光刻机、光刻胶概念震荡拉升 清溢光电涨超15%】财联社4月29日电, 光刻机、光刻胶概念震荡拉升,清溢光电、安集科技涨超15%,路维光电、强力新材、久日新材、飞凯材料等跟涨。消息面上,SEMI报告称,全球半导体预计2024年将增长6.4%,首次突破每月3000万片大关(以200mm当量计算),随着半导体生产销售的增长,有望带动半导体材料需求的增长。

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