134项授权专利，实现半导体行业上游关键材料国产化。
随着全球化不断加深，半导体行业已经成为国际竞争的一大焦点。长期以来，受限于技术瓶颈和国际环境的制约，中国的半导体产业发展面临了重重困难。但在政策的大力扶持，以及有志之士的共同努力下，中国半导体行业上下游产业链也正在通过“国产替代”的方式，持续突破“封锁”，迎来新的发展机遇。
近期即将开启申购的广东欧莱高新材料股份有限公司（下称欧莱新材），即是这波“国产替代”大军中的一员。
欧莱新材的创始人文宏福15岁考上大学武汉钢铁学院，21岁硕士毕业于东北工学院(现名东北大学），后又去安徽理工大学（原安徽淮南矿业学院）任教。1989年，24岁的文宏福从高校教师岗位离任，“下海”做起进出口贸易。经过20余年在市场上的摸爬滚打后，文宏福在2010年创办欧莱新材前身欧莱有限，正式踏入半导体材料领域。
这一干，又是十多年。文宏福59岁，曾经的欧莱有限从一间名不见经传的民营小企业，成长为国家“专精特新”小巨人重点企业。站在IPO的门口，这家“高性能溅射靶材”企业，能否就此鱼跃龙门，获得更为广阔的发展空间？
1、
年入4亿，多项产品实现“进口替代”
欧莱新材主要从事高性能溅射靶材的研发、生产和销售，2021年-2023年，公司主营业务收入占营业收入的比重分别为 87.44%、91.01%和 79.4%。
作为各类薄膜工业化制备的关键材料，溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域。
其中，溅射靶材是制备半导体集成电路的核心材料之一；平面显示是溅射靶材需求规模最大的市场应用领域；太阳能电池是溅射靶材未来发展潜力较大的应用领域之一。
随着应用领域的高速发展，高性能溅射靶材市场规模也在日益扩大。根据华经产业研究院的数据，2016-2021年，全球溅射靶材市场规模从113亿美元上升至213亿美元，年复合增长率为13.5%。2023年，全球市场规模进一步上升至258亿美元（约合人民币1868亿元）。
然而，高性能溅射靶材伴随着半导体、平面显示、信息存储、微电子等产业的发展而兴起，涉及到电性、磁性、热性、反射率及颜色外观等多个技术特性，属于典型的技术密集型产业，生产技术、机器设备、工艺流程和工作环境要求非常严格，长期以来一直为国外垄断。
而作为国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一，欧莱新材持续突破创新，实现了重点行业上游关键材料的国产化，提升了我国半导体显示产业链的自主可控程度。
根据中国电子材料行业协会的资料，公司G8.5、G10.5平面铜靶、G10.5平面ITO靶等多项产品的核心技术指标已达到国内外同类产品先进水平，实现进口替代。并为实现我国显示材料国产配套做出了突出贡献。
2022年，欧莱新材荣获“2022年度新认定合肥市集成电路、新型显示、生物医药、网络与信息安全重点产业链企业”。
而凭借高竞争力的产品，欧莱新材斩获了一众优质客户，包括京东方(000725.SZ)、华星光电、惠科股份HKC、超声电子(000823.SZ)、莱宝高科(002106.SZ)、南玻A(000012.SZ)、AGC(旭硝子)、Pilkington(皮尔金顿)等。公司客户认证优势明显，且与下游知名头部客户的合作关系不断深化。
在稳定的大客户支持下，欧莱新材业绩也是节节攀升。2021年-2023年，欧莱新材营业收入分别是3.82亿元、3.92亿元、4.76亿元，并实现净利润5048.17万元、3532.31万元、4934.33万元。
2、
研发投入高于行业平均，拥有134项授权专利
欧莱新材的竞争优势主要源自其技术研发实力领先，核心技术自主可控。
《招股书》显示，欧莱新材通过持续的技术创新与研发突破，在铜靶、铝靶、钼及钼合金靶、ITO靶等多种类型溅射靶材领域实现了技术突破，部分产品的关键技术指标可实现最高标准已超过国内外主要溅射靶材企业公开披露的同类产品指标。
而在产品质量相同的情况下，欧莱新材的产品价格还更便宜。以公司首套通过下游显示面板厂商验证的溅射靶材为例，欧莱新材旋转铜靶、旋转铝靶价格与国外溅射靶材厂商同类产品价格相比低15%左右，钼铌靶价格低40%左右，价格优势明显。
这主要是欧莱新材通过持续的技术工艺研发，打破了国外主要溅射靶材企业在相关应用领域的技术垄断，不断优化生产工序，提高溅射靶材成材率，降低生产过程中的损耗，有效地控制并降低了生产成本。
据悉，高性能溅射靶材行业属于典型的技术密集型行业，技术研发能力要求较高，研发团队的专业性和稳定性是公司保持竞争优势的关键基础。
而欧莱新材高度重视技术研发，现拥有“博士后科研工作站”、“广东省博士工作站”、“广东省高性能靶材工程技术研究中心”以及“高纯材料研发中心”、“薄膜技术研发中心”等多个实验室。公司现已掌握一系列具备自主知识产权的核心技术。
从数据来看，截至2023年12月31日，公司共有63名研发人员，占员工总数的比例为13.88%，其中核心技术人员4名。而公司创始人文宏福本人就是技术型管理人员，作为博士研究生校外指导教师，他深耕溅射靶材行业20余年，熟悉溅射靶材的生产工艺，主要研究方向是溅射靶材的生产制造及产业化技术开发。
另外，文宏福在公司任职期间作为专利发明人取得38项已授权专利，其中包括16项发明专利，22项实用新型，曾于2018年带领团队获得中国创新创业大赛新材料行业总决赛全国二等奖。
欧莱新材还为研发人员提供了具有市场竞争力的薪酬福利，制定了《研发项目管理办法》，针对研发人员和研发项目设置科学合理的激励机制，根据研发人员的个人表现、研发成果、对公司的贡献等设置了不同金额的奖励标准，有效地防范了技术人才流失。
《招股书》显示，2021年-2023年，欧莱新材的研发投入分别是2164.91万元、2779.99万元、2710.66万元，一直维持在较高水准。同期，研发投入占营业收入的比例分别为5.66%、7.09%、5.69%。
这是什么水平？
2021和2022年，同行业可比公司的研发费用率平均值分别为4.73%、4.76%。也就是说，欧莱新材的研发费用率要高于行业平均值，与行业头部公司江丰电子(300666.SZ)的研发费用率较为接近。
在连续的高研发投入下，截至2024年2月29日，欧莱新材拥有134项授权专利，其中发明专利31项，实用新型专利103项，覆盖溅射靶材生产的各个关键环节。
而这也进一步增强了欧莱新材的行业竞争力。
3、
全球市场持续增长
欧莱新材亟待募资扩产
如今公司冲刺A股科创板，打算募集资金5.77亿元，其中1.67亿元用于高端溅射靶材生产基地项目（一期），2.29亿元用于高纯无氧铜生产基地建设项目，8108.3万元用于欧莱新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目，1亿元用于补充流动资金。
具体来看，高端溅射靶材生产基地项目(一期)有助于公司突破溅射靶材后段加工工序的产能瓶颈，扩充主营业务产品生产能力，优化现有生产布局，提升与客户交易的便利度和客户满意度，增强公司产品市场竞争力；
高纯无氧铜生产基地建设项目建成实施后，欧莱新材将实现高导电率、低氧含量高纯铜的量产供货，在现有高性能溅射靶材的基础上向上游延伸产品价值链，保障高纯铜持续稳定的供应；
欧莱新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目将增强公司在半导体集成电路用溅射靶材领域内的技术创新能力和产品开发能力，为后续推动半导体集成电路品圆制造用溅射靶材产业化奠定技术基础，有利于公司未来进一步丰富产品类型，优化产品结构，拓展下游应用领域。
而未来，随着物联网、大数据、新型显示、太阳能电池、节能玻璃等新型基础设施和新型应用领域的发展，溅射靶材的终端应用领域将进一步扩大，全球溅射靶材市场将持续增长。
《招股书》显示，2023年欧莱新材半导体显示用平面靶(ITO 靶除外)、半导体显示用旋转靶(ITO 靶除外)产能分别为17554片、3867根，虽然都较2022年有所增长，但产能利用率依然高达84.99%和87.33%，处于较高水平。
而现有产能无法满足平面显示、半导体集成电路、太阳能电池等应用领域持续快速增长的需求，一定程度上制约了欧莱新材的业务发展。
高性能溅射靶材行业又属于技术和资金密集型行业，厂房、设备等固定资产投入以及研发投入的金额较大。而与爱发科、住友化学、三井金属、江丰电子、隆华科技、阿石创等国内外已上市竞争对手相比，目前欧莱新材主要采用银行贷款进行融资，融资渠道相对单一，难以满足公司各方面的资金需求。
因此，若公司可以顺利在资本市场募资扩产，建设新的生产基地，欧莱新材将解决产能瓶颈问题。从而获得更大的发展机会。
你对半导体材料领域的未来看好吗？评论区聊聊吧。
