捷佳伟创(300724.SZ):正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备

捷佳伟创(300724.SZ):正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备
2023年11月29日 18:00 格隆汇APP

格隆汇11月29日丨有投资者于投资者互动平台向捷佳伟创(300724.SZ)提问,“请问公司向半导体清洗领域扩张的进展如何”,公司回复称,在半导体清洗领域,公司持续向高端清洗设备发展,正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备,目前进展顺利,同时公司还在向其他泛半导体领域拓展。

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