这热点冲的停不下来了！
结合软件操作，更能实现利润的更大化，如上海新阳12.4日在底部时发出B点，之后在启动时两次入选阶段新高股票池，且12月龙腾四海指标上穿红线后，多数时间维持在红线上方，保持着主升浪的信号，至今仍未发出S点，涨幅达到惊人的181%！
另外趋势股的神器，趋势顶底这个指标在强力新材上又得到了验证！
上海新阳K线图
强力新材K线图
1 光刻胶及市场规模
光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。2018年全球光刻胶及辅助材料销售额分别为17.3亿美元和22.3亿美元，占据半导体原材料总额的5%和7%。
2 光刻胶国产化率不高，国产替代潜力巨大
根据行业用途，光刻胶分为半导体光刻胶，PCB光刻胶和LCD光刻胶。半导体光刻胶和 PCB光刻胶以及 LCD 光刻胶的构成基本类似，由光刻胶树脂和光引发剂组成。但半导体光刻胶在性能和价格方面远高于其他两类，在LCD光刻胶和PCB领域我国国产化率并不高，半导体光刻胶作为光刻胶中最高端的组成部分，我国本土企业目前仅占有较低的市场份额。
3 发展空间巨大
目前半导体光刻胶市场超过 90% 市场份额被日本住友、信越化学、JSR 、TOK 、美国陶氏等公司 占据，国内半导体光刻胶技术与国外先进技术差距较大。国际先进技术水平已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，12寸晶圆制造所用ArF光刻胶尚处在研发阶段，国内仅可小批量供应8英寸晶圆所用KrF光刻胶，通过中芯国际验证。因此，在国家大基金二期扶持产业发展时，半导体材料领域的光刻胶有望获得重点关注。目前我国半导体光刻胶生产和研发企业仅有五家，分别为苏州瑞红（晶瑞股份子公司）、北京科华、南大光电、容大感光、强力新材、上海新阳。
4 投资建议（来源：巨丰投顾）
南大光电（300346）：
南大光电持有北京科华微电子31.39%的股权，并直接投资6.55亿元（其中国拨资金1.93亿元、地方配套资金1.97亿元），拟用3年时间建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶项目。另外，其研发团队阵容目前也是国内屈指可数的一线团队。
晶瑞股份（300655）：
2018年年报中，公司的主营业务收入主要来自超净高纯试剂、锂电池粘合剂，其次为光刻胶、功能性材料等产品的销售收入，2018年光刻胶贡献收入84.2亿元，占比仅为10.4%。光刻胶产品由公司的子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红规模生产光刻胶20多年，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。苏州瑞红承担并完成了国家02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，i线光刻胶已向中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等客户供货，KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25~0.13M的技术要求，建成了中试示范线。
强力新材（300429）：
公司从事半导体KrF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售，光酸中间体已商业化量产，光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证销售。最新的公司互动表示，目前公司主要产品为光刻胶专用化学品，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。公司的产品按照应用领域分类，主要有印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用途光引发剂（非光刻胶领域使用）等。
容大感光（300576）：
公司1.8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life-off光刻胶，I/G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位。
上海新阳（300236）
公司主营业务产品为引脚线表面处理化学品、晶圆镀铜、清洗化学品晶圆划片刀，公司在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。光刻胶领域，公司拥有193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。公司表示，经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。
飞凯材料（300398）
公司自主研发用于 PCB 制造上的 UV 固化的阻焊油墨已小批量销售，用于 TFT 平板显示屏电路制作用光刻胶尚处于研发阶段。
安集科技（688019）
公司产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品，用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品，通过将半导体晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片上的光刻胶残留物。公司主要收入来源为化学机械抛光液，但2018年贡献2.05亿元营收（占比为82.78%），较17年的2.08亿元有轻微下滑；光刻胶去除剂业务快速发展，16年仅贡献1942万元，18年达到4205万元，两年实现翻倍。
智盈1元：
