最新消息，ASML终于表态了，光刻机限制正式升级。
荷兰光刻机巨头ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》。
其中提到，荷兰政府发布了更多关于即将出台的半导体设备出口限制的信息。这些新的出口管制主要针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。
由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能销售最先进的浸没式DUV系统。但是关于所谓的“最先进的”，ASML没有收到任何确切定义的额外信息，所以将其解释为TWINSCAN NXT:2000i和后续的沉浸式系统。
年初，美国四处游走，想要拉拢荷兰和日本，加大对我国半导体领域的限制。随后到了2月份，美国表示已经与荷兰和日本达成协议，只不过相关细节一直没有出台。而这次荷兰率先出手，正式加大出口管制，在原有只限制EUV光刻机的基础上，增加了浸没式光刻机。
那么此举对我们会造成多大影响呢？
首先，ASML的浸没式光刻机主要有三个型号，TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。
根据ASML的表态，2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制，所以ASML的DUV光刻机中，应该只有1980Di可以继续进口。
那么1980Di的性能到底如何呢？
在ASML的官网，我可以看到，1980Di、2000i和2050i的光源波长均为193nm，均支持≤38nm制程工艺，不过1980Di一般广泛用于16nm、14nm和10nm制程工艺的大批量生产，2000i主要面向7nm工艺和DRAM生产，而最新的2050i主要面向7nm和5nm工艺。
1980Di每小时能够生产295个晶圆，这块跟2000i 一样。而2050i已经升级到第五代NXT技术，每小时能够生产295个晶圆，生产效率更高。
总之，2000i和2050i是1980Di的升级版本，做了一定的优化和升级，产能和良品率可能更好一些。
另外，即便是1980Di，仍然可以通过多重曝光实现7nm工艺，甚至是5nm，因为它可以实现1.5nm-2.5nm的套刻精度。并且，台积电的第一代7nm工艺其实就是使用1980Di实现的，可见其性能还是可以的。
所以，我们仍然可以购买ASML的DUV光刻机，并没有被完全限制，这也算是一个不错的局面。有了它，国内的各家晶圆厂仍然可以不断的扩充产能，研发生产技术。
目前，这三种光刻机均已经进入国内。例如，2018年，国内大厂华虹和长江存储购买的1980Di成功进场安装。同年，中国首台2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂，主要生产DRAM内存芯片。
而顶配的2050i，据说其第一批产品下线以后，就交付给国内厂商了，但具体的细节暂时还不清楚。这些说明，此前DUV光刻机全系对于我们来说，没有任何限制，只有EUV光刻机不行。
而新的政策出台以后，目前我们只能采购侵没式光刻机中的1980Di了。
我想，这对于ASML以及中国半导体行业来说，或许都是美国紧逼之下的最好结果了。倘若DUV光刻机彻底被禁，ASML的损失也将是巨大的。
2022年，ASML实现营收212亿欧元，同比增长14%，毛利率50.5%，净利润56亿欧元。其中，光刻机收入148亿欧元占比70%为最高，量测6亿欧元占比3%，其他安装与售后收入57亿欧元占比27%。
涉及到具体产品，其中EUV光刻机发货54台，但只确认了40台，其收入为70亿欧元，增长12%，在光刻机收入中占比48%，接近一半。而DUV光刻机，浸没式卖了81台，ArF28台，KrF151台销售了81台，收入为52亿欧元，在光刻机收入中占比35%，比重也是比较大的。
其中，中国大陆市场购买了22亿欧元的ASML光刻机，占ASML总收入的14%，占EUV以外的整机设备收入的27%，接近3成。
虽然看上去好像也不多，但其实中国企业的购买力是绝对没有问题，或许大家考虑的是其中存在的风险，例如一旦产线大规模使用了ASML的光刻机，相关的零部件、原材料一旦受到政策方面的限制，将会陷入巨大被动，所以并没有全力扩张。
另外，27%的份额比2021年的29%还略有下降，这或许也说明了，我国在成熟制程工艺方面，已经有了长足的进步，能够完成一定的国产化替代。
另外，ASML预计，2023年的总产量将包括60台EUV、375台DUV，其中1/4为浸润式。其实能使用EUV光刻机的晶圆厂本身也不多，而且台积电也出现了EUV光刻机停机的情况，所以ASML的销售压力还是有的。那么在这样的大背景下，ASML当然会极力争取减少限制。
总之，这次荷兰对美国做出妥协姿态，也再次的提醒我们，高端半导体的国产化替代，需要再加加速了。期待他们接触限制、政策松绑已经是不可能的了。
