好消息来了，又一家国产KrF光刻胶通过验证！
近日，武汉太紫微宣布，其推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证。
据了解，这款光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶。并且，相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
同时，值得称道的是，这款光刻胶还实现了配方全自主设计。
大家都知道，光刻胶半导体行业所需的关键性原材料，主要分为g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶和EUV光刻胶等等。
长时间以来，全球光刻胶主要被日美企业占据着，但随着美西方在半导体领域对我们进行持续封锁和打压，国产半导体产业链也迎来了发展机遇，国产化替代的进程正在加速，时至今日，各个领域已有重大突破。
过去两年，关于国产光刻胶，我也在很多视频中给大家介绍过。目前已经取得了不小的几进步，国产光刻胶的市场份额正在逐步提升，例如，根据某券商的研发显示，i线光刻胶的国产化率已经超过60%-70%，KrF光刻胶的国产化率也超过 30%-40%，ArF光刻胶也达到了10-20%。
在高端的EUV光刻胶方面，受限于没有EUV光刻机，发展的动力略显不足，但北京科华的EUV光刻胶项目已通过02专项验收，做好了技术储备。未来随着国产高端光刻机的发展，这一细分领域也不会有任何问题。换句话说，国产光刻胶已经打破了国外技术垄断。
另外，值得一提的是，武汉太紫微成立于2024年5月，不到半年就取得这样的技术突破，背后是华中科技大学武汉光电国家研究中心，在电子化学品领域已经深耕了二十余载，技术实力可见一斑。并且不止是KrF，团队还将开发ArF光刻胶，助力国产半导体产业的进一步发展。
总之，在国家的发展和进步中，半导体产业具有重要的战略作用，所以必须实现自主可控才行，而光刻胶作为关键材料之一，自然也获得了政策层面的全力支持。
相信在这样一个大背景，以及国产半导体行业的快速发展之下，国产光刻胶在2024年有望获得更高的市场份额，并且国产光刻胶将会持续获得好的发展机遇。
