近日，上海微电子正式发布新一代大视场高分辨率先进封装光刻机，首台产品将于今年年内交付。
根据智慧芽数据显示，上海微电子于2018年12月提交了一件与上述产品相关的发明专利，“一种光刻投影物镜及光刻机”（公开号：CN109375480B）。专利摘要显示，这一技术可以提高光刻机的分辨率。该专利已于2020年8月获得授权。
从专利申请总量的维度看，上海微电子及其关联公司目前在全球126个国家/地区中，共有3700余件专利申请，其中授权发明专利超过2300件。通过对上述全部专利进行分析可知，上海微电子的专利布局，主要集中于光刻机、工件台、测量装置、投影物镜、预对准等专业技术领域。
针对上海微电子的专利申请人进行分析后发现，上述近4000件的专利中95%的申请人均为上海微电子装备(集团)股份有限公司。此外，该公司与清华大学、浙江大学等高等院校以及中国科学院上海光学精密机械研究所等科研院所进行了产学研合作，共同申请了众多专利。
（备注：智慧芽全球专利数据库收录数据包括126个国家/地区中已经公开的专利，一般来说，专利从申请到公开可查询，需要4到18个月）
